光刻机是干什么用的?
光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML，光刻机是芯片制造的核心设备之一。
光刻机(Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
光刻机哪个国家能造?
荷兰的ASML光刻机非常出名，ASML光刻机采用了多个国家的顶尖技术与硬件，由多家巨头公司共同合力研发，其内部零件数量多达10万个、4万个螺栓、3000根电线、2公里短软管等等，整台机器重量高达180吨。是集合了全球多个科技强国的顶尖技术相互融合的结晶。
荷兰ASML制造的光刻机，光源技术是美国的、光学设备是日本的、轴承是瑞典的、阀件是法国的、机械工艺和蔡司镜头是德国的、制造技术则是来自台积电和三星。
所以没有任何一个国家能独立制造光刻机。
光刻机最先进的是多少纳米?
光刻机最先进的是90nn工艺，现在掌握在荷兰ASML手中。
